আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইটের পরিচিতি
আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইট হল একটি নতুন ধরনের গ্রাফাইট উপাদান যা 1960 এর দশকে তৈরি হয়েছিল।চমৎকার বৈশিষ্ট্যের সিরিজ সহ, আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইট অনেক ক্ষেত্রে আরও মনোযোগ পায়।নিষ্ক্রিয় বায়ুমণ্ডলের অধীনে, আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইটের যান্ত্রিক শক্তি তাপমাত্রা বৃদ্ধির সাথে দুর্বল হবে না, তবে প্রায় 2500℃-এ সবচেয়ে শক্তিশালী মান পৌঁছে আরও শক্তিশালী হবে।তাই এর তাপ প্রতিরোধ ক্ষমতা খুবই ভালো।সাধারণ গ্রাফাইটের সাথে তুলনা করে, এটির মালিকানাধীন আরও সুবিধা, যেমন সূক্ষ্ম এবং কমপ্যাক্ট কাঠামো, ভাল অভিন্নতা, কম তাপ সম্প্রসারণ সহগ, চমৎকার তাপীয় শক প্রতিরোধ, শক্তিশালী রাসায়নিক প্রতিরোধ, ভাল তাপ এবং বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা এবং চমৎকার যান্ত্রিক প্রক্রিয়াকরণ কর্মক্ষমতা।
আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইটের প্রক্রিয়া
সাধারণ এক্সট্রুশন ছাঁচনির্মাণ এবং কম্প্রেশন ছাঁচনির্মাণ থেকে ভিন্ন, আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইট কোল্ড আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং প্রযুক্তি দ্বারা গঠিত হয়।চাপা পাউডারের কাঁচামাল একটি রাবার ছাঁচে ভরা হয়, এবং চাপা পাউডার উচ্চ-ফ্রিকোয়েন্সি ইলেক্ট্রোম্যাগনেটিক কম্পনের মাধ্যমে কম্প্যাক্ট করা হয়।সিল করার পরে, পাউডার কণার মধ্যে বায়ু নিষ্কাশন করার জন্য ভ্যাকুয়াম সঞ্চালিত হয় এবং জল বা তেলের মতো তরল মাধ্যম দিয়ে ভরা উচ্চ-চাপের পাত্রে রাখা হয়, তারপর নলাকার বা আয়তক্ষেত্রাকার আকারে চাপুন।প্যাসকেলের নীতি অনুসারে, জলের মতো তরল মাধ্যমে রাবারের ছাঁচে চাপ প্রয়োগ করা হয় এবং সমস্ত দিকের চাপ সমান হয়।এইভাবে, সংকুচিত পাউডার কণাগুলি ছাঁচে ভরাটের দিকনির্দেশিত হয় না, তবে একটি অনিয়মিত বিন্যাসে সংকুচিত হয়।অতএব, যদিও গ্রাফাইট ক্রিস্টালোগ্রাফিক বৈশিষ্ট্যে অ্যানিসোট্রপিক, সামগ্রিকভাবে, আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইট আইসোট্রপিক।
আইসোট্রপিক গ্রাফাইট অ্যাপ্লিকেশন
● সৌর কোষ এবং সেমিকডাক্টর ওয়েফার
সৌর শক্তি এবং সেমিকন্ডাক্টর শিল্পে, একক ক্রিস্টাল সিজোক্রালস্কি ফার্নেসের তাপ ক্ষেত্রের জন্য গ্রাফাইট অংশ, পলিসিলিকন গলে যাওয়া এবং ঢালাই চুল্লির জন্য হিটার, যৌগিক অর্ধপরিবাহী উত্পাদনের জন্য হিটার, ক্রুসিবল এবং অন্যান্য অংশগুলির জন্য প্রচুর পরিমাণে আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইট ব্যবহার করা হয়।সাম্প্রতিক বছরগুলিতে, সৌর ফটোভোলটাইক বিদ্যুৎ উৎপাদন দ্রুত বিকশিত হয়েছে, এবং ফোটোভোলটাইক শিল্পে মনোক্রিস্টালাইন সিলিকন এবং পলিক্রিস্টালাইন সিলিকনের উত্পাদন গ্রাফাইটের জন্য একটি বিশাল চাহিদা রয়েছে।বর্তমানে, মনোক্রিস্টালাইন এবং পলিক্রিস্টালাইন সিলিকন পণ্যগুলি বড় আকারের এবং উচ্চ-শেষের পণ্যগুলির দিকে বিকাশ করছে এবং আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইটের জন্য উচ্চতর প্রয়োজনীয়তা রয়েছে, যথা: বৃহত্তর বৈশিষ্ট্য, উচ্চ শক্তি এবং উচ্চতর বিশুদ্ধতা।
●নিউক্লিয়ার গ্রাফাইট
আইসোস্ট্যাটিক গ্রাফাইটের মাঝারি যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য, চমৎকার উচ্চ-তাপমাত্রার যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য, উচ্চ তাপ পরিবাহিতা এবং নিম্ন রৈখিক প্রসারণ সহগ রয়েছে।উচ্চ তাপমাত্রার গ্যাস কুলড চুল্লিতে, এটি প্রধানত প্রতিফলক, মডারেটর এবং সক্রিয় অঞ্চল কাঠামোগত উপাদান হিসাবে পারমাণবিক জ্বালানীর সাথে একসাথে পারমাণবিক জ্বালানী সমাবেশ তৈরি করতে ব্যবহৃত হয়।400 ~ 1200 ℃ তাপমাত্রায়, এটি উচ্চ শক্তির সাপেক্ষে γ বেশ কয়েক বছর ধরে এক্স-রে এবং দ্রুত নিউট্রনের বিকিরণ, যা বিকিরণ ক্ষতি এবং গ্রাফাইটের গঠন এবং বৈশিষ্ট্য পরিবর্তন করা সহজ।অতএব, উপাদানের উচ্চ গ্রাফিটাইজেশন, ভাল আইসোট্রপি, ইউনিফর্ম কম্পোজিশন এবং কম ইলাস্টিক মডুলাস থাকা প্রয়োজন।বর্তমানে, চীন উচ্চ তাপমাত্রার গ্যাস কুলড চুল্লির জন্য শুধুমাত্র অল্প পরিমাণ পারমাণবিক গ্রাফাইট তৈরি করতে পারে, যা মূলত আমদানির উপর নির্ভর করে।
●ইডিএম
গ্রাফাইটের কোন গলনাঙ্ক নেই।এটি বিদ্যুতের একটি ভাল পরিবাহী এবং ভাল তাপীয় শক প্রতিরোধ ক্ষমতা রয়েছে।এটি EDM জন্য একটি চমৎকার ইলেক্ট্রোড উপাদান.সাধারণ গ্রাফাইট উপাদান, যা মোটা কণা কাঠামো সহ কম ঘনত্বের অ্যানিসোট্রপিক গ্রাফাইট, ইডিএম-এর চাহিদা মেটাতে পারে না, যখন আইসোস্ট্যাটিক প্রেসিং গ্রাফাইট ইলেক্ট্রোডের অভিন্ন গঠন, ঘন এবং উচ্চ মেশিনিং নির্ভুলতা রয়েছে, যা এই প্রয়োজনীয়তাগুলি পূরণ করতে পারে।